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真空离子镀膜技术           ★★★
真空离子镀膜技术
作者：孔祥浩 文章来源：南京航空航天大学 点击数： 更新时间：2010-3-5 13:02:50

 

一、项目简介

    离子镀膜是国外70 年代以来趋向商业成熟的一种新技术。其原理是在高真空内用等离子电子束使欲镀物质熔化，蒸发原子在电场下离子化，向金属零件表面轰击而沉积于表面，若同时通入某种气体，则可形成化合物镀层。

    镀层厚度5μm，保持零件原有光洁度和尺寸精度，其硬度与耐磨性随膜层种类而异。如为TiN膜，硬度可达HV2000左右。

二、应用范围

 1、装饰镀膜：仿黄金色TiV膜、银白色Cr膜、Al膜等，用于工艺美术品、表壳、钟壳、表带、奖杯、奖牌、纪念章、镜子、汽车灯反光罩等。

 2、硬质膜：用于工模具、塑料模具、冷拉挤压模具、插齿刀、滚齿刀等各类切削工具。

 3、耐热、耐蚀及其它功能膜：用于各类零件、紧固标准件等。工艺成熟，镀膜费约占刀具价格的30～50%，市场需求量大。

三、投资概算

    需方应具备70m2厂房；离子镀膜机（50万元）。

四、合作方式

    技术转让，技术服务，承接加工。

五、联系方式

南京航空航天大学    孔祥浩    科技开发办公室主任

电话：025-84892757      手机：13851550745       邮箱：std01@nuaa.edu.cn

 
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